[发明专利]发光元件阵列、光器件和图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201710432803.8 申请日: 2017-06-09
公开(公告)号: CN107785777B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 近藤崇;早川纯一朗;城岸直辉;村上朱实;樱井淳 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;杨薇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发光元件阵列、光器件和图像形成设备。一种发光元件阵列,包括:多个半导体堆叠结构,各半导体堆叠结构包括发光单元,该发光单元形成在基板上,以及光放大单元,该光放大单元沿着基板的基板表面从发光单元延伸,使得沿延伸方向的长度长于发光单元的长度,将从发光单元沿延伸方向传播的光放大,并且从沿着延伸方向形成的发光部发出经放大的光,其中,多个半导体堆叠结构被排列成使得各个光放大单元的延伸方向基本彼此平行。
搜索关键词: 发光 元件 阵列 器件 图像 形成 设备
【主权项】:
一种发光元件阵列,该发光元件阵列包括:多个半导体堆叠结构,各半导体堆叠结构包括:发光单元,该发光单元形成在基板上,以及光放大单元,该光放大单元沿着所述基板的基板表面从所述发光单元延伸,使得沿延伸方向的长度长于所述发光单元的长度,将从所述发光单元沿所述延伸方向传播的光放大,以及从沿着所述延伸方向形成的发光部发出经放大的光,其中,所述多个半导体堆叠结构被排列成使得各个光放大单元的所述延伸方向基本彼此平行。
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