[发明专利]一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法

摘要

本发明公开了一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法，目的在于，制备的Fe₃O₄薄膜的磁各向异性明显，具有更高的矫埦场，且Fe₃O₄薄膜表面形貌均匀，粗超度小，所采用的技术方案为，包括：1)将洁净的基片放置在永磁体的磁极上，并将基片和永磁体置于真空反应腔体中加热备用，且加热温度小于永磁体的居里温度；2)以二茂铁蒸汽作为铁源，以氧气作为氧源，将二茂铁蒸汽和氧气交替脉冲送入真空反应腔体中，对基片进行若干次原子层沉积循环，直至基片的表面上均匀沉积有保形的Fe₃O₄薄膜；3)向真空反应腔体中充入惰性气体，待基片自然冷却至室温后取出。

主权项

1.一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将洁净的基片放置在永磁体的磁极上，并将基片和永磁体置于真空反应腔体中加热备用，且加热温度小于永磁体的居里温度；所述步骤1)中基片的洁净处理包括：首先分别用丙酮和无水乙醇依次清洗基片10～15分钟；然后用去离子水反复超声清洗3～5次，每次各5～10分钟；最后清洗完成后将基片取出用干燥的氮气吹干；2)以二茂铁蒸汽作为铁源，以氧气作为氧源，将二茂铁蒸汽和氧气交替脉冲送入真空反应腔体中，对基片进行若干次原子层沉积循环，直至基片的表面上均匀沉积上保形的Fe₃O₄薄膜；所述步骤2)中每个原子层沉积循环包括：首先进行1～4s氧气源脉冲；然后用氮气清洗6‑16s；其次进行0.1～0.4s二茂铁源脉冲；最后用氮气清洗6～16s；3)向真空反应腔体中充入惰性气体，待基片自然冷却至室温后取出。