[发明专利]一种离子选择性的纳米通道膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710378197.6 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN108948387B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 闻利平;张振;江雷 | 申请（专利权）人： | 北京赛特超润界面科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L53/00 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 陈琳琳;李彪 |
| 地址： | 101320 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子选择性的纳米通道膜及其制备方法，所述纳米通道膜包括结合在一起两层膜，一层为嵌段共聚物1膜，另一层为嵌段共聚物2膜；所述纳米通道膜的厚度为亚微米级别，其具有规则的纳米级通道分布和高的孔隙率，通道直径在25纳米以下，并且两层膜有着不同的表面电荷分布。本发明的膜具有超高离子通量，超强离子选择性，该膜有着亚微米级别的厚度，表现出了很好的渗透能量转换性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 选择性 纳米 通道 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子选择性的纳米通道膜，其特征在于，所述纳米通道膜包括结合在一起两层膜，一层为嵌段共聚物1膜，另一层为嵌段共聚物2膜；所述纳米通道膜的厚度为亚微米级别，具有规则的纳米级通道分布，纳米级通道的个数为1010/cm2级别，通道直径在25纳米以下，并且两层膜有着不同的表面电荷分布。
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