[发明专利]一种光热共路干涉模块及其用于测量晶体缺陷的方法在审
申请号: | 201710378070.4 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN107121395A | 公开(公告)日: | 2017-09-01 |
发明(设计)人: | 吴少凡;郑熠;黄鑫 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17;G01N21/88;G01N21/84;G01N21/39;G01N21/47;G01N21/49;G01N21/23 |
代理公司: | 北京元周律知识产权代理有限公司11540 | 代理人: | 张莹 |
地址: | 350002 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种应用于晶体缺陷测量仪的光热共路干涉模块,基于本模块的晶体缺陷测量仪通过将泵浦激光与探测激光聚焦于样品的同一点,测试样品的动态介观缺陷,通过样品的移动得到样品的动态缺陷三维分布图,本发明的光热共路干涉模块包括泵浦光源、探测光源、会聚光路、样品架、测量光路、激光功率计以及波前探测器,泵浦激光加热测试点,剩余激光由激光功率计接收,探测激光通过被加热的测试点,由于测试点的温度分布,波前发生干涉变化,透过样品的弱激光通过测量光路,照射到波前探测器,测量变化后的波前信息,通过对比计算,获得照射点的发热情况以及吸收大小。 | ||
搜索关键词: | 一种 光热 干涉 模块 及其 用于 测量 晶体缺陷 方法 | ||
【主权项】:
一种光热共路干涉模块,其特征在于,所述光热共路干涉模块包括泵浦光源、探测光源;所述泵浦光源与探测光源会聚于待测样品的同一点上。
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