[发明专利]一种透光材料表面金属图案的背光催化镀制备方法

摘要

一种透光材料表面金属图案的背光催化镀制备方法，属于材料表面处理技术领域。本发明基于透光材料可使光线透过的特点，将光催化镀方法与背光催化技术有机结合，采用光能利用率更高、光束更集中、光照强度均匀性更好的方式进行透光材料表面金属图案化制备，特别适用于有内腔的透光材料内表面制备金属图案。本发明的透光材料表面金属图案的背光催化镀制备方法绿色环保、工艺流程短、生产成本低，制备得到的金属图案尺寸精度高、镀层表面质量好、与基体结合强度高。

主权项

一种透光材料表面金属图案的背光催化镀制备方法，其特征在于，制备工艺为：(1)将透光材料表面负载纳米半导体薄膜的一侧浸入镀液中，将其未负载纳米半导体薄膜且不接触镀液的另一侧对着波长为200～460nm的光源；(2)打开光源，通过有模控形方法或无模控形方法在透光材料对着光源一侧的表面上生成与设计金属图案形状尺寸一致的光照区域，该光照区域内的光线先后穿过透光材料和纳米半导体薄膜，在纳米半导体薄膜与镀液接触一侧的表面上形成与透光材料表面光照区域形状尺寸一致的光学图案；(3)光照0.5～10min，在光学图案覆盖范围内的纳米半导体薄膜表面发生光催化氧化还原反应，使与光学图案接触的镀液中的金属离子被光催化氧化还原成单质金属吸附在纳米半导体薄膜表面，生成与设计金属图案形状尺寸一致的初生金属镀层，反应期间维持镀液的pH值为7～13；(4)继续在镀液中以初生金属镀层为活化中心进行自催化化学镀，反应温度为20～70℃、反应时间为0～180min，实现初生金属镀层在镀液中的连续生长，最终在负载了纳米半导体薄膜一侧的透光材料表面制备得到所需厚度和形状尺寸的高精度金属图案；(5)将表面镀覆了金属图案的透光材料取出，洗涤后晾晒或吹干，即完成了透光材料表面金属图案的制备。