[发明专利]X-射线曝光区域调节方法、存储介质和X-射线系统在审
| 申请号： | 201710358487.4 | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN108937975A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 赫伟 | 申请（专利权）人： | 上海西门子医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201318 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X‑射线曝光区域调节方法、存储介质和X‑射线系统。根据一实施方式，X‑射线曝光区域调节方法包括：对待测对象的状态进行实时监控，并在待测对象的状态满足预设条件时获取所述待测对象的初始图像；确定所述初始图像中的感兴趣区域；以及基于所述感兴趣区域的信息设置所述X‑射线曝光区域。本发明能够实现根据待检对象自动调节X‑射线系统中曝光区域，不仅便于操作、提高检查效率，而且能够避免患者受到不必要的辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光区域 射线 感兴趣区域 初始图像 存储介质 待测对象 射线系统 待检对象 实时监控 信息设置 预设条件 辐射 检查 | ||
【主权项】：
1.一种X‑射线曝光区域调节方法，所述方法包括：对待测对象的状态进行实时监控，并在待测对象的状态满足预设条件时获取所述待测对象的初始图像；确定所述初始图像中的感兴趣区域；以及基于所述感兴趣区域的信息设置所述X‑射线曝光区域。
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