[发明专利]一种双波段冷镜的制作方法及装置有效
| 申请号： | 201710356160.3 | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN106980146B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 王孝东;陈波;王海峰;郑鑫 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种双波段冷镜的制作方法及装置，所述方法克服了远紫外波段材料色散现象严重和材料吸收不可忽略等设计难点，采用的非对称高斯包络剪裁膜厚调制方法有创新性，在计算机光学薄膜软件优化过程中，用高斯型曲线来表示121.6nm反射带的目标曲线，有助于具有带宽4nm的反射带的获得，该方法简单，容易操作，能够得到较好的设计结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波段 制作方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种双波段冷镜的制作方法，其特征在于，所述方法包括：选取高阶121.6nm多层膜作为基础膜系；使用宽波段减反射膜对所述121.6nm多层膜的反射带旁带振荡进行抑制得到第一过程冷镜；使用非对称高斯包络剪裁膜厚调制方法对所述第一过程冷镜进行280nm反射带旁带波纹的抑制得到第二过程冷镜，包括：利用预设第三关系对第一过程冷镜进行裁剪厚度调制多层膜每一层薄膜，所述第三关系为：T(L)＝TAVG[1+kA(L)cos(2πfmL)]其中，H和L分别是高、低折射率材料的光学厚度，T(L)是第L层膜的光学厚度，TAVG是四分之一波长膜厚，fm是调制频率，这里取fm＝0.5，k是调制振幅，A(L)是裁剪振幅函数；对所述第二过程冷镜的121.6nm反射带利用高斯型目标曲线进行处理得到双波段冷镜。
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