[发明专利]一种控制轮廓面平整度的地下硐室光面爆破方法在审
| 申请号： | 201710324976.8 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN107024155A | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | 孔洋;石崇;阮怀宁;高朋飞;罗志华;孙赑 | 申请（专利权）人： | 河海大学 |
| 主分类号： | F42D1/00 | 分类号： | F42D1/00;F42D3/04 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人： | 刘艳艳,董建林 |
| 地址： | 211100 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种控制轮廓面平整度的地下硐室光面爆破方法，包括以下步骤1）根据实际施工效果中存在的超欠挖现象，组织课题攻关小组进行现场调查，收集现场图片；2）进行数理分析，评定既有光面爆破效果；3）分析确定光面爆破的关键参数，如周边孔孔距、最小抵抗线、周边孔密集系数、周边孔装药量及装药结构和起爆时差等；4）根据流体动力学理论进行地下硐室周边孔孔距核算；5）结合现场调查、试验数据与理论分析结果，制定具体对策和实施计划；6）光面爆破效果校核。本发明具有节约施工成本，提升施工质量，提高经济效益的特点，适用于水利水电工程、隧道工程、地下空间结构等领域的地下硐室的光面爆破。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 轮廓 平整 地下 光面 爆破 方法 | ||
【主权项】：
一种控制轮廓面平整度的地下硐室光面爆破方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：根据实际施工效果中存在的超欠挖现象，组织课题攻关小组进行现场调查，收集现场图片；步骤二：进行数理分析，评定既有光面爆破效果；步骤三：分析确定光面爆破参数，光面爆破参数包括周边孔孔距、最小抵抗线、周边孔密集系数、周边孔装药量及装药结构和起爆时差；步骤四：根据流体动力学理论进行地下硐室周边孔孔距核算；步骤五：结合现场调查、试验数据与理论分析结果，制定具体对策和实施计划；步骤六：光面爆破效果校核。
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