[发明专利]一种大尺度调控艾里光束传输轨迹的方法在审
申请号: | 201710320057.3 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107346043A | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 吴琼 | 申请(专利权)人: | 浙江师范大学 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B27/28 |
代理公司: | 杭州知瑞知识产权代理有限公司33271 | 代理人: | 陈宜芳 |
地址: | 321004 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种大尺度调控艾里光束传输轨迹的方法。该方法基于衍射理论及艾里函数的定义,在艾里光束立方相位板的中心偏离傅立叶变换透镜光轴的情况下,推导了艾里光束的峰值轨迹表达式,确定了影响艾里光束传输轨迹的因素为傅里叶变换透镜的焦距,相位掩膜板中心偏离傅立叶变换透镜光轴的横纵向错位。通过全息缩微输出系统制备大尺度的立方相位掩膜板,增加相位掩膜板中心偏离傅立叶变换透镜光轴的横、纵向错位,可以实现大范围地调控艾里光束初始发射角,从而实现大范围调控艾里光束传输轨迹。本发明使用大尺寸的立方相位掩膜板产生艾里光束,大大增加了艾里光束初始发射角的范围,为大幅度调控艾里光束传输轨迹提供了一种新的方案。 | ||
搜索关键词: | 一种 尺度 调控 光束 传输 轨迹 方法 | ||
【主权项】:
一种大尺度调控艾里光束传输轨迹的方法,其特征在于:基于全息打印技术制作大尺寸立方相位掩膜板,通过大范围调节傅里叶变换透镜光轴和相位板中心的偏移,较大范围改变艾里光束的初始发射角,从而大范围地改变和控制艾里加速光束的传输轨迹。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江师范大学,未经浙江师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710320057.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:调节型多媒体实物展览展示装置
- 下一篇:一种服装设计用样品展示装置