[发明专利]一种高性能减反射膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种高性能减反射膜的制备方法，以硅酸乙酯和碳化硅为原料，制备得到减反射膜，制备思路为：将硅酸乙酯中加入稳定剂与乙烯‑醋酸乙烯共聚物，形成稳定的溶胶液，同时利用碳化硅与聚乙烯吡咯烷酮形成悬浊液，然后依次在硅片上进行镀膜，经历微沸与提拉方式镀膜，最后进行烧结，得到减反射膜。本发明分子间范德华作用力较小，有序性和堆积密度低，提高减反射膜的表面硬度，并提高了减反射膜的透射率，具有明显的增透效果。

主权项

1.一种高性能减反射膜的制备方法，其制备步骤如下：步骤1，将硅酸乙酯加入至无水乙醇中，搅拌均匀后加入稳定剂，形成稳定的溶胶液；步骤2，将乙烯‑醋酸乙烯共聚物和固化剂缓慢加入至溶胶液中，进行超声分散10‑15min，形成粘稠分散液；步骤3，将粘稠分散液浸泡硅片，然后密封微沸反应1‑2h，自然冷却后取出硅片；步骤4，将镀膜后硅片放入马弗炉中进行烘干，然后自然冷却，形成均匀膜层；步骤5，将聚乙烯吡咯烷酮加入蒸馏水中，搅拌至完全溶解，然后加入纳米碳化硅、渗透剂和发泡剂，形成悬浊液；步骤6，将步骤4中的硅片放入悬浊液中进行浸渍提拉，然后放入反应釜中进行梯度加热反应2‑4h，自然冷却后得到高性能减反射膜。