[发明专利]一种浅层随钻电法探测方法和装置有效
申请号: | 201710275352.1 | 申请日: | 2017-04-24 |
公开(公告)号: | CN106950605B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 张建锋;谢玉华;郭士礼;李恒乐;路德萍 | 申请(专利权)人: | 河南工程学院 |
主分类号: | G01V3/20 | 分类号: | G01V3/20;E21B47/00;E21B49/00 |
代理公司: | 郑州先风知识产权代理有限公司 41127 | 代理人: | 黄伟 |
地址: | 451191 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及一种浅层随钻电法探测方法和装置。在钻探过程中实施的,且探测的四个接触点都在目标介质上,不需要反演工作,能够直接准确探测目标层的物理参数。此外,由于该方法不需要采取样品,最大限度上保持了探测目标介质的物理状态,属于原位测试方法,探测的介质参数更加接近真实值,且实施过程快速,效率明显增强。 | ||
搜索关键词: | 一种 浅层随钻电法 探测 方法 装置 | ||
【主权项】:
浅层随钻电法探测方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,在目标地区的地表打孔;步骤二,钻孔至指定深度时,测量第一测点A和第二测点B之间的电流值,测量第一测点A和第二测点B之间的第三测点M和第四测点N之间的电压值,所述第一测点A、第三测点M、第四测点N和第二测点B在目标层中自上而下顺序分布;步骤三,通过下面公式计算目标层的电阻率值ρS:ρS=KΔUI]]>式中,K=1/(hAM‑1‑hAN‑1+hBN‑1‑hBM‑1),hAM——第一测点和第三测点之间的高度差,hAN——第一测点和第四测点之间的高度差,hBN——第二测点和第四测点之间的高度差,hBM——第二测点和第三测点之间的高度差,ΔU——电压值,I——电流值。
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