[发明专利]一种类金刚石复合薄膜及其制备方法

摘要

本申请提供了一种类金刚石复合薄膜及其制备方法。本申请提供的类金刚石复合薄膜包括依次接触的SiO_xN_y膜层和含氢DLC膜层；其中，0＜x≤2，0＜y≤1.3。本发明提供的类金刚石复合薄膜不仅具有良好的光学特性，同时还具有良好的硬度和耐磨性，能够适用于对光学和机械性能均有要求的器件。

主权项

1.一种类金刚石复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a）将硅靶材在工作气体与反应气体的环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到SiOxNy膜层；所述工作气体为氩气，所述反应气体为氧气和氮气；b）在所述SiOxNy膜层表面复合含氢DLC膜层，得到类金刚石复合薄膜；所述步骤a）中，氩气流量为35~50sccm；氧气流量为2~15sccm；氮气流量为2~10sccm；氩气、氮气和氧气的体积比为20：（1~4）：（2~5）；磁控溅射的气压为2.5~4.0mTorr；所述SiOxNy膜层的厚度为6~15nm；所述含氢DLC膜层的厚度为3~10nm；其中，0＜x≤2，0＜y≤1.3。