[发明专利]SiC单晶及其制造方法有效
申请号: | 201710259323.6 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN107366013B | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 白井嵩幸 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/36 |
代理公司: | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈冠钦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及SiC单晶及其制造方法。提供不含夹杂物的低电阻p型SiC单晶。SiC单晶的制造方法,其为使SiC晶种基板与具有从内部向表面温度降低的温度梯度的Si‑C溶液接触从而使SiC单晶生长的SiC单晶的制造方法,其中,Si‑C溶液包含Si、Cr、Al和B,以Si、Cr、Al和B的合计量为基准,Al以10at%以上的量包含在Si‑C溶液中,以Si、Cr、Al和B的合计量为基准计,B以超过0.00at%、1.00at%以下的量包含在Si‑C溶液中。 | ||
搜索关键词: | sic 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.SiC单晶的制造方法,其为使SiC晶种基板与具有从内部向表面温度降低的温度梯度的Si-C溶液接触从而使SiC单晶生长的SiC单晶的制造方法,其中,/n所述Si-C溶液包含Si、Cr、Al和B,/n以所述Si、Cr、Al和B的合计量为基准,所述Al以10at%以上的量包含在所述Si-C溶液中,/n以所述Si、Cr、Al和B的合计量为基准,所述B以超过0.00at%、1.00at%以下的量包含在所述Si-C溶液中。/n
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