[发明专利]一种离子注入制备电极的曲面焦平面探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710253080.5 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN107063473B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 王宏臣;杨鑫;王鹏;陈文礼;甘先锋;董珊;孙丰沛 申请(专利权)人: 烟台睿创微纳技术股份有限公司
主分类号: G01J5/20 分类号: G01J5/20
代理公司: 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 代理人: 刘志毅
地址: 264006 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种离子注入制备电极的曲面焦平面探测器,所述探测器为曲面,其曲率半径不小于3mm,其厚度不超过50μm,且其电极层和热敏层均为氧化钛薄膜,平坦度较高,且能够适用大视场或超大视场,超大面阵列高分辨率成像;还涉及上述探测器的制备方法,在支撑层上制备氧化钛薄膜,用光阻覆盖桥面区域的氧化钛薄膜,对桥腿处的氧化钛薄膜进行离子注入,桥面区域的氧化钛薄膜为半导体氧化钛薄膜,相当于热敏层;桥腿区域的氧化钛薄膜为导体氧化钛薄膜;还包括对探测器减薄至50μm以内,并对其进行弯曲定型的步骤;可以始终保持光线焦点在焦平面探测器上,从而保证最大程度的成像效果,适合应用于大视场或超大视场,超大面阵列高分辨率成像。
搜索关键词: 氧化钛薄膜 制备 焦平面探测器 探测器 离子 高分辨率成像 超大视场 大视场 面阵列 热敏层 电极 桥腿 桥面 成像效果 光线焦点 弯曲定型 导体 电极层 平坦度 支撑层 光阻 减薄 半导体 覆盖 应用 保证
【主权项】:
1.一种离子注入制备电极的曲面焦平面探测器,包括一带有读出电路的半导体基座和与所述半导体基座电连接的探测器本体,其特征在于,所述探测器为曲面,其曲率半径不小于3mm,其厚度不超过50μm,所述读出电路和所述探测器本体的总厚度不超过10μm;所述探测器本体包括金属反射层、绝缘介质层、支撑层和氧化钛薄膜,所述半导体基座上设有金属反射层和绝缘介质层,所述金属反射层包括若干个金属块;所述绝缘介质层上设有支撑层,所述支撑层上设有锚点孔和通孔,所述通孔终止于所述金属块,所述锚点孔和所述通孔内填充有连接金属,所述支撑层和所述连接金属上设有氧化钛薄膜,所述氧化钛薄膜包括在桥面区域的半导体氧化钛薄膜和在桥腿区域的导体氧化钛薄膜,所述半导体氧化钛薄膜上设有第一保护层,所述导体氧化钛薄膜和所述第一保护层上设有第二保护层。
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