[发明专利]检测装置、检测方法、程序、光刻装置和物品制造方法有效
| 申请号： | 201710247044.8 | 申请日： | 2017-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN107305320B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 坂本宪稔 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了检测装置、检测方法、程序、光刻装置和物品制造方法。检测标记的检测装置包括：成像设备，被配置成执行对标记的成像；以及控制器，被配置成控制所述成像设备。所述控制器被配置成控制所述成像设备以使得在具有所述标记的对象的位置收敛在容差内之前仅所述位置在所述容差内的时间段是成像的时间段。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 装置 方法 程序 光刻 物品 制造 | ||
【主权项】：
一种检测标记的检测装置，其特征在于，所述装置包括：成像设备，被配置成执行标记的成像；和控制器，被配置成控制所述成像设备，其中所述控制器被配置成控制所述成像设备以使得在具有所述标记的对象的位置收敛在容差内之前仅所述位置在所述容差内的时间段是成像的时间段。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710247044.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种浸没式光刻系统和浸没流场维持方法
- 下一篇：一种检验光刻对准精度的方法
