[发明专利]一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法

摘要

本发明涉及光电技术领域，特别涉及一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法。本发明所述的一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法，采用常规的毒性小近乎无毒的酮有机溶剂系对黄光制程光刻机零部件正光阻进行清洗去除以便再生使用，三种不同类的酮有机溶剂按照科学合理的比例进行复配，大大提高了复配溶剂的溶解力和蒸发速率，清洗效果好，清洗液成本低，对环境友好，同时酮有机溶剂具有还原性，可以很好的抑制零部件表面的腐蚀和老化，很好的保护零部件不会造成其腐蚀和老化，保证了零部件的再生使用效果，不会对零部件的使用产生影响；使用本发明的浸泡清洗液和再生方法再生黄光制程光刻机零部件正光阻再生次数可达100次。

主权项

一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法，其特征在于：包括以下步骤：1)浸泡清洗液的选择和配制：浸泡清洗液的选择为酮类有机溶剂系，所述的酮类有机溶剂系为三种酮有机溶剂按照比例复配而成的复配液，所述的三种酮有机溶剂包括酮有机溶剂a、酮有机溶剂b和酮有机溶剂c；2)浸洗：将步骤1)配制好的浸泡清洗液倒入浸缸中，再将待清洗再生的零部件浸入到浸泡清洗液中，溶解掉大部分的固化或液态的正光阻；3)漂洗：将浸泡好后的零部件用漂洗液进行漂洗清除干净零部件各边、角的残留正光阻和浸泡清洗液，以便零部件的再生使用；4)水洗：将漂洗后的零部件用超纯水水洗去除零部件残留的浸泡清洗液和漂洗溶剂；5)干燥：将水洗后的零部件置于超净干燥设备中进行干燥。