[发明专利]一种Al集电极制备三维结构电极材料的方法有效

专利信息
申请号: 201710221772.1 申请日: 2017-04-06
公开(公告)号: CN106952739B 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 刘胜男 申请(专利权)人: 哈尔滨工大华策科技有限公司
主分类号: H01G11/24 分类号: H01G11/24;H01G11/36;H01G11/46;H01G11/86
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 侯静
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种Al集电极制备三维结构电极材料的方法,它涉及一种电极材料的制备方法。本发明的目的是要解决现有Al集电极材料存在致密氧化层,导致的界面电阻较高,比表面积较小的问题。制备方法:一、超声清洗得到干净的Al基底;二、压印得到压印后的Al基底;三、阳极氧化得到阳极氧化后的Al基底;四、运用等离子体刻蚀技术进行刻蚀,再采用等离子体化学气相沉积的方法沉积,得到垂直石墨烯‑集流体材料;五、将硫代硫酸钠、高锰酸钾和去离子水混合均匀得到混合溶液;六、水热反应,得到反应产物,再进行洗涤和干燥,得到三维结构电极材料。本发明主要用于制备的三维结构电极材料。
搜索关键词: 一种 al 集电极 制备 三维 结构 电极 材料 方法
【主权项】:
1.一种Al集电极制备三维结构电极材料的方法,其特征在于它是按以下步骤完成的:一、将Al集电极先以丙酮溶液作为超声清洗液超声清洗1min~5min,再以丙醇溶液作为超声清洗液超声清洗1min~5min,得到干净的Al基底;二、将干净的Al基底用硅模板进行压印,得到压印后的Al基底,所述硅模板的表面垂直均布纳米柱,纳米柱高度为150nm~250nm;三、向氧化装置中注入磷酸电解液,再将压印后的Al基底作为阳极置于氧化装置中,采用石墨棒作为对电极,调节电压为100V~300V,阳极氧化时间为30min~300min,得到阳极氧化后的Al基底;所述磷酸电解液由质量分数为85%的磷酸、去离子水和乙二醇混合而成,且所述的磷酸电解液中质量分数为85%的磷酸与去离子水的体积比为1:(100~1000),所述的磷酸电解液中质量分数为85%的磷酸与乙二醇的体积比为1:(100~1000);四、将阳极氧化后的Al基底置于等离子体化学气相沉积真空装置中,抽真空后,以氢气气体流量为10sccm~100sccm通入氢气,以氩气气体流量为10sccm~100sccm通入氩气,调节等离子体化学气相沉积真空装置中压强为100Pa~300Pa,然后将等离子体化学气相沉积真空装置内温度升高至300~580℃,再将等离子体化学气相沉积真空装置中压强调至200Pa~500Pa,并在氢气气体流量为10sccm~100sccm、氩气气体流量为10sccm~100sccm、射频功率为100W~200W、压强为200Pa~500Pa和温度为300~580℃条件下进行刻蚀,刻蚀时间为10s~1000s,刻蚀结束后停止通入氢气;然后以甲烷气体流量为5sccm~50sccm通入甲烷,并将氩气气体流量调至50sccm~100sccm,将等离子体化学气相沉积真空装置中压强调至200Pa~700Pa,然后在甲烷气体流量为5sccm~50sccm、氩气气体流量调至50sccm~100sccm、射频功率为100W~200W、压强为200Pa~700Pa、温度为300℃~580℃条件下进行沉积,沉积时间为1000s~5000s,沉积结束后,关闭电源,停止通入甲烷,在氩气气氛下冷却至室温,即得到垂直石墨烯‑集流体材料;五、将硫代硫酸钠、高锰酸钾和去离子水混合均匀,超声搅拌0.5h~1h,得到混合溶液;所述混合溶液中硫代硫酸钠质量与去离子水的体积比为1g:(200~500)mL,所述混合溶液中高锰酸钾质量与去离子水的体积比为1g:(50~150)mL;六、将步骤五得到的混合溶液置于带有聚四氟乙烯内衬的反应釜中,然后将垂直石墨烯‑集流体材料浸渍于混合溶液中,在温度为100℃~150℃的条件下水热反应8h~24h,得到反应产物,将反应产物用去离子水洗涤3~5次,得到洗涤产物,然后在温度为90℃~150℃的条件下对洗涤产物干燥6h~12h,得到沉积二氧化锰颗粒的集流体材料,即为三维结构电极材料;步骤一中所述Al集电极是按以下步骤得到的:①、将Al基底材料分别以丙酮溶液、无水乙醇和蒸馏水作为超声清洗液,依次超声清洗5min,清洗后置于真空干燥箱中,在温度为60℃下烘干,即得到清洗过的Al基底材料;②、将步骤①中清洗过的Al基底材料置于等离子体化学气相沉积真空装置中,抽真空后,以氢气气体流量为20sccm通入氢气,以氩气气体流量为40sccm通入氩气,调节等离子体化学气相沉积真空装置中压强为200Pa,在氢气气体流量为20sccm、氩气气体流量为40sccm和压强为200Pa条件下将等离子体化学气相沉积真空装置内温度升高至550℃,升温时间为15min,然后在射频功率为100W、氢气气体流量为20sccm、氩气气体流量为40sccm、温度为550℃和压强为200Pa条件下进行刻蚀,刻蚀时间为300s,刻蚀结束后,停止通入氢气;然后以甲烷气体流量为15sccm通入甲烷,并将氩气气体流量调至85sccm,调节等离子体化学气相沉积真空装置中压强为650Pa,然后在射频功率为200W、甲烷气体流量为15sccm、氩气气体流量为85sccm、压强为650Pa和温度为550℃条件下进行沉积,沉积时间为180s,沉积结束后,关闭射频电源和加热电源,停止通入甲烷,在氩气气氛下从温度为550℃下冷却至室温,即得到经过等离子体刻蚀处理的Al集电极,即为Al集电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工大华策科技有限公司,未经哈尔滨工大华策科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710221772.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top