[发明专利]光学成像装置在审
| 申请号： | 201710215034.6 | 申请日： | 2017-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN108664828A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 田雪松 | 申请（专利权）人： | 田雪松 |
| 主分类号： | G06K7/10 | 分类号： | G06K7/10 |
| 代理公司： | 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11539 | 代理人： | 李楠 |
| 地址： | 100098 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学成像装置,包括:辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器；辐射源，用于当光学成像装置在基底上移动时，辐射具有位置编码的成像区域；辐射导向器，用于将来自辐射源的辐射引导到成像区域；视轴单元包括第一反射镜和聚焦透镜；第一反射镜，用于将来自于成像区域的辐射改变方向；聚焦透镜，用于将来自于成像区域的辐射聚焦到辐射传感器；辐射传感器，用于接收来自成像区域的反射光，从而获取成像区域的位置编码图像。 | ||
| 搜索关键词： | 成像区域 光学成像装置 辐射传感器 辐射源 辐射导向器 聚焦透镜 位置编码 反射镜 视轴 辐射 辐射引导 改变方向 反射光 上移动 基底 聚焦 图像 | ||
【主权项】：
1.一种光学成像装置，其特征在于，所述装置包括:辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器；所述辐射源，用于当所述光学成像装置在基底上移动时，发出辐射光辐射具有位置编码的成像区域；所述辐射导向器，用于将来自辐射源的辐射光引导到所述成像区域；所述视轴单元包括第一反射镜和聚焦透镜；所述第一反射镜，用于将来自于所述成像区域的辐射光改变方向；所述聚焦透镜，用于将来自于所述成像区域的辐射光聚焦到所述辐射传感器；所述辐射传感器，用于接收来自所述成像区域的反射光，从而获取所述成像区域的位置编码图像。
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