[发明专利]一种利用率高的离子源溅射靶材装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201710176088.6 申请日: 2017-03-22
公开(公告)号: CN106884147A 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 申请(专利权)人: 中山市博顿光电科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司44214 代理人: 吝秀梅,李彦孚
地址: 528437 广东省中山市火炬*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及离子源溅射技术领域,更具体地,涉及一种利用率高的离子源溅射靶材装置及其使用方法,该装置包括背板及可拆卸地设于所述背板上的第一靶材、第二靶材、第三靶材及第四靶材;所述四个靶材均为矩形结构,且四个靶材呈田字形结构拼接在一起。本发明一种利用率高的离子源溅射靶材装置,通过设置四个靶材,并将四个靶材可拆卸地呈田字形结构拼接于背板上,使得离子源第一次溅射后能重新调整四个靶材拼接时的相对位置,使用离子源再次进行溅射,重复靶材位置调整及离子源溅射的工作直至每个靶材的四个角均被使用为止,该装置不但能大幅度提高靶材的利用率,降低生产成本,而且能保证靶材材料沉积速率的稳定性,保证制造的薄膜不受污染。
搜索关键词: 一种 利用率 离子源 溅射 装置 及其 使用方法
【主权项】:
一种利用率高的离子源溅射靶材装置,其特征在于,包括背板(1)及可拆卸地设于所述背板(1)上的第一靶材(21)、第二靶材(22)、第三靶材(23)及第四靶材(24);所述四个靶材均为矩形结构,且四个靶材呈田字形结构拼接在一起。
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