[发明专利]超大板直写式光刻机扫描曝光方法有效
| 申请号： | 201710156795.9 | 申请日： | 2017-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN106802538B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 陈海巍 | 申请（专利权）人： | 无锡影速半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 214135 江苏省无锡市新吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了超大板直写式光刻机扫描曝光方法，属于直写曝光技术领域。本发明采用光路覆盖半个整板面积的方式和基板大小自动判断的方法来完成超大板和普通板的兼顾生产，使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果，生产普通板时能与普通板LDI拥有同等的生产产能和效果，提高设备的利用率和适用性。 | ||
| 搜索关键词： | 超大 板直写式 光刻 扫描 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种直写式光刻机扫描曝光方法，其特征在于，所述方法是利用直写式光刻机设备；所述直写式光刻机设备包括吸盘和多个光路组件；所述光路组件单个与单个之间相对位置固定；所述多个光路组件是覆盖1/n个吸盘的光路组件，且n大于1；所述方法是：当待曝光基板的宽度小于等于吸盘宽度的1/n时，在扫描曝光时经往复扫描多个条带后即完成曝光；当待曝光基板的宽度大于吸盘宽度的1/n时，在扫描曝光时，经往复扫描多个条带后曝光完成的宽度为吸盘宽度的1/n，然后光路或者吸盘在X轴方向上进行一次大的步进，再往复扫描多个条带曝光剩余的吸盘宽度即完成整个基板的曝光，或者曝光下一个1/n个吸盘宽度并继续步进与往复扫描、直至完成整个基板的曝光。
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