[发明专利]一种EDFA用微光学混合器件制作方法及装置在审
申请号: | 201710146928.4 | 申请日: | 2017-03-13 |
公开(公告)号: | CN107015314A | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | 黄华明 | 申请(专利权)人: | 武汉高新光机电有限公司 |
主分类号: | G02B6/27 | 分类号: | G02B6/27;H04B10/291;H04J14/02 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 汤财宝 |
地址: | 430223 湖北省武汉市武汉东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种EDFA用微光学混合器件制作方法及装置,所述方法包括S1、制作反射芯件;S2、检测老化后的反射芯件的系统存光及插入损耗、回波损耗指标是否合格;S3、通过玻璃封装技术将反射芯件与隔离器芯件封装;S4、测试系统存光,并测试封装后器件的插入损耗、回波损耗、方向性、隔离度指标是否合格。将光的耦合、分光、密集波分复用等功能集成到一个器件里面,减小器件的体积,优化损耗并减少了成本,为EDFA的小型化、阵列化创造了条件,解决传统结构不能满足EDFA小型化、阵列化的发展需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 edfa 微光 混合 器件 制作方法 装置 | ||
【主权项】:
一种EDFA用微光学混合器件制作方法,其特征在于,包括:S1、制作反射芯件;S2、检测老化后的反射芯件的系统存光及插入损耗、回波损耗指标是否合格;S3、通过玻璃封装技术将反射芯件与隔离器芯件封装;S4、测试系统存光,并测试封装后器件的插入损耗、回波损耗、方向性、隔离度指标是否合格。
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