[发明专利]一种超薄TMD二维纳米片的制备方法有效
| 申请号： | 201710128516.8 | 申请日： | 2017-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN108529676B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 吴长征;吴佳静;彭晶;谢毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | C01G35/00 | 分类号： | C01G35/00;C01G41/00;C01B19/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种TMD纳米片的制备方法，包括以下步骤，首先在常温条件下，将TMD层状晶体、有机碱金属化合物和正己烷混合反应后，得到中间体；最后将上述步骤得到的中间体放入溶剂中进行剥离，得到TMD纳米片。本发明在常温条件下，采用有机碱金属化合物进行插层扩大了层间距；又充分利用了溶剂的表面张力来克服TMD材料的层间范德华力，保护了层内的键合作用力，从而得到了超大尺寸的超薄TMD纳米片。本发明提供的制备方法具有工艺简单、产率高、且能大批量生产的优点，完全克服了现有方法中制备成本昂贵和样品性质被干扰等缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 tmd 二维 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种TMD纳米片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A)在常温条件下，将TMD层状晶体、有机碱金属化合物和正己烷混合反应后，得到中间体；B)将上述步骤得到的中间体放入溶剂中进行剥离，得到TMD纳米片。
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