[发明专利]一种沉积腔室和膜层沉积装置

摘要

本发明提供一种沉积腔室和膜层沉积装置。该沉积腔室包括腔体、环绕设置在腔体侧壁的内衬、靶材和基座；靶材设置于内衬顶部开口的上方，基座设置于内衬底部开口的下方；还包括遮挡件，遮挡件环绕固定设置于基座外围，且遮挡件在靶材上的正投影覆盖内衬底部。该沉积腔室不仅能够避免等离子体颗粒落入腔体底部，而且能使该沉积腔室无需再设置压环，从而不仅避免了工艺结束后压环与托盘相互脱开时沉积薄膜脱落所导致的颗粒污染，而且克服了压环的设置在工艺过程中带来的沉积工艺不稳定的缺陷，同时还克服了压环的设置所导致的沉积薄膜的不均匀的缺陷，确保了整个工艺过程的稳定性和薄膜沉积的均匀性。

主权项

1.一种沉积腔室，包括腔体、环绕设置在所述腔体侧壁的内衬、靶材和基座；所述靶材设置于所述内衬顶部开口的上方，所述基座设置于所述内衬底部开口的下方；其特征在于，还包括遮挡件，所述遮挡件环绕固定设置于所述基座外围，且所述遮挡件在所述靶材上的正投影覆盖所述内衬底部。