[发明专利]具有灵活的溶液调整的光刻图案化的方法及系统有效
| 申请号： | 201710073172.5 | 申请日： | 2017-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN107153328B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 王忠诚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 用于光刻图案化的方法包括在衬底上方形成第一层，第一层为辐射敏感的层。方法还包括将第一层曝光于辐射。方法还包括将显影剂应用于曝光的第一层，得到衬底上方的图案，其中，显影剂包括显影化学制剂并且显影剂中的显影化学制剂的浓度在显影剂的应用期间为时间的函数。本发明还涉及用于光刻图案化的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 灵活 溶液 调整 光刻 图案 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻图案化的方法，包括：在衬底上方形成第一层，所述第一层为辐射敏感的层；将所述第一层曝光于辐射；将显影剂应用于曝光的第一层，得到所述衬底上方的图案，其中，所述显影剂包括显影化学制剂，所述显影剂中的显影化学制剂的浓度在应用所述显影剂期间为时间的函数。
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