[发明专利]化学强化用浮法玻璃有效

专利信息
申请号: 201710064130.5 申请日: 2012-06-22
公开(公告)号: CN106830634B 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 山中一彦;小池章夫;藤原祐辅;小林大介;网野阳介;秋山良司;白井正信 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C03B18/02 分类号: C03B18/02;C03C3/085
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲,并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃,其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面,其中,顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下,底面的深度5~10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5~10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下,以及底面的深度5~30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5~30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。 1
搜索关键词: 化学强化 浮法玻璃 底面 标准化 熔融金属 研磨处理 有效地 省略 成形 顶面 翘曲
【主权项】:
1.一种化学强化用浮法玻璃,其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面,该顶面的氢浓度比该底面的氢浓度低,板厚为1.5mm以下,其中,

顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.32以下,所述深度5~10μm处的标准化氢浓度为深度5~10μm处的氢浓度除以深度50~55μm处的氢浓度所得的值;

在此,深度5~10μm处的氢浓度及深度50~55μm处的氢浓度为在以下的分析条件下测得的值,

分析条件:

测定装置:具有四极质谱分析仪的次级离子质谱分析装置

初级离子种类:Cs+

初级加速电压:5.0kV

初级离子电流:1μA

初级离子入射角、即初级离子与试样面的垂直方向的角度:60°

光栅尺寸:200×200μm2

检测区域:40×40μm2

使用中和用的电子枪。

2.如权利要求1所述的浮法玻璃,其中,所述顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.30以下。

3.如权利要求1所述的浮法玻璃,其中,所述顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.28以下。

4.如权利要求1~3中任一项所述的浮法玻璃,其中,所述顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.19以上。

5.如权利要求1~3中任一项所述的浮法玻璃,其中,以摩尔%表示的组成计,该玻璃含有SiO2 50~74%、Al2O3 1~10%、Na2O 6~14%、K2O 3~11%、MgO 2~15%、CaO 0~6%及ZrO2 0~5%,SiO2及Al2O3的含量合计为75%以下,Na2O及K2O的含量合计为12~25%,MgO及CaO的含量合计为7~15%。

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