[发明专利]一种氧化锌纳米棒/黑硅异质结纳米光电探测器及其制备方法有效
申请号: | 201710025876.5 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN106684201B | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 王莉;任治飞;何淑娟;李晶晶;于永强;吴春艳;罗林保 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | H01L31/101 | 分类号: | H01L31/101;H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/0296;H01L31/0236 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司34101 | 代理人: | 卢敏,何梅生 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种氧化锌纳米棒/黑硅异质结纳米光电探测器及其制备方法,其特征在于是以p‑型硅片为衬底,在衬底的上表面形成有黑硅层,在黑硅层上形成有氧化锌纳米棒阵列层;在氧化锌纳米棒阵列层上设置有顶电极;在衬底的下表面设置有底电极。本发明的纳米光电探测器采用氧化锌纳米棒阵列作为主要的感光层,纳米棒排布均匀且致密,具有较大的比表面积,使得纳米光电探测器的感光面积显著地增加,大幅增加了光生载流子的数量,提升了纳米光电器件的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 纳米 黑硅异质结 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种氧化锌纳米棒/黑硅异质结纳米光电探测器的制备方法,其特征在于:所述纳米光电探测器是以p‑型硅片为衬底(1),在所述衬底(1)的上表面形成有黑硅层(2),在所述黑硅层(2)上形成有氧化锌纳米棒阵列层(3);在所述氧化锌纳米棒阵列层(3)上设置有顶电极(4);在所述衬底(1)的下表面设置有底电极(5);构成所述氧化锌纳米棒阵列层(3)的氧化锌纳米棒垂直于黑硅层生长;所述p‑型硅片的表面形成有金字塔结构;所述顶电极(4)和所述底电极(5)皆为通过涂抹银浆而形成的银电极;所述纳米光电探测器的制备方法,包括如下步骤:a、对p‑型硅片进行超声清洗并吹干备用;b、将1~3g KOH固体和10mL异丙醇溶解在40mL水中,制得碱性刻蚀液;然后将p‑型硅片放入碱性刻蚀液中,80~85℃水浴条件下加热20~40分钟,取出后冲洗,即在p‑型硅片的上表面形成金字塔结构;c、将0.042g硝酸银颗粒和10.7mL质量浓度为40%的氢氟酸溶解于50mL水中,获得溶液A;将2mL质量浓度为30%的过氧化氢和10.7mL质量浓度为40%的氢氟酸加入到50mL水中,获得酸性刻蚀液;将10mL质量浓度为68%的硝酸加入到10mL水中,获得溶液B;然后将表面形成有金字塔结构的p‑型硅片依次在溶液A中浸泡1min,在酸性刻蚀液中刻蚀1~3min,在溶液B中浸泡2~3h;取出后用去离子水清洗,即在p‑型硅片的上表面形成黑硅层;d、将0.16g二水合醋酸锌溶解于15mL乙二醇甲醚中,制成旋涂液;然后使用匀胶机将所述旋涂液滴在黑硅层上,并在3000转/秒的转速下旋涂20~40s,再在150℃下烘烤10分钟;重复滴液、旋涂、烘烤3~5次,使黑硅层上形成氧化锌籽晶层;e、将0.2~0.6g六水合硝酸锌和0.21g乌洛托品溶解于30mL水中,制得氧化锌纳米棒阵列的生长液;将形成有氧化锌籽晶层的p‑型硅片竖直浸入盛有生长液的反应釜中,95℃生长6h;然后取出并清洗,即在黑硅层上形成氧化锌纳米棒阵列层;f、利用银浆分别从p‑型硅片底部和氧化锌纳米棒阵列的顶部引出底电极和顶电极,即完成氧化锌纳米棒/黑硅异质结纳米光电探测器的制备。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710025876.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种三色红外探测器的制备方法
- 下一篇:一种感光组件、指纹识别面板及装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的