[发明专利]具有弯曲的干涉光栅的设备和X射线相衬成像装置和方法在审

专利信息
申请号: 201710024213.1 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN106974667A 公开(公告)日: 2017-07-25
发明(设计)人: B.鲍曼;A.克雷默;T.韦伯;J.赛德勒 申请(专利权)人: 西门子保健有限责任公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/04;G01N23/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 胡莉莉,刘春元
地址: 德国埃*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及具有弯曲的干涉光栅的设备和X射线相衬成像装置和方法。本发明说明了一种用于干涉型X射线成像的设备(1),所述设备(1)具有干涉光栅(2)和框式的紧固装置(3),其中所述干涉光栅(2)以能板簧式地弯曲的方式来构造并且被布置在所述紧固装置(3)的对置的支撑装置(4)的凹槽(5)中,使得所述干涉光栅(2)在一维上凹面地弯曲或者在一维上凸面地弯曲。由此可以简单地并且可逆地使所述干涉光栅(2)弯曲。本发明也说明了一种X射线相衬成像装置和一种用于使得针对干涉型X射线成像的干涉光栅弯曲的方法。
搜索关键词: 具有 弯曲 干涉 光栅 设备 射线 成像 装置 方法
【主权项】:
用于干涉型X射线成像的设备(1),所述设备(1)具有:‑ 能板簧式地弯曲的、四边形的干涉光栅(2),和‑ 框式的、四边形的紧固装置(3),其特征在于,‑ 所述干涉光栅(2)的两个对置的侧边缘被夹紧在所述紧固装置(3)的两个对置的支撑装置(4)的凹槽(5)中,‑ 使得所述干涉光栅(2)在一维上凹面地弯曲或者在一维上凸面地弯曲。
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