[发明专利]大尺寸光栅的制造装置和制造方法

摘要

一种大光栅的制造装置和制造方法，该装置包括光源移动模块、基片移动模块和监测控制模块三部分。相比于以往的扫描光束法制造光栅的装置，该装置将光栅基片的二维扫描运动拆分，使用一维精密平移台分别驱动光源和光栅基片，免除了配备二维精密平移台的需求，大大节约了系统成本。该装置构造简单，易于拓展的所制大光栅的面积。结合3轴激光干涉仪定位及闭环调节控制方法，该装置能有效制作出具有高条纹精度和平行度的大光栅。

主权项

1.一种大尺寸光栅的制造装置，包括光源移动模块、基片移动模块和监测控制模块三部分，其特征在于：所述的光源移动模块，包括光源(1)、光源平移台(2)和龙门架(3)，所述的光源平移台(2)为一维长行程平移台，其底座固定在所述的龙门架(3)上，所述的光源(1)通过连接块安装在所述的光源平移台(2)的移动台面上，所述的光源(1)向下投射曝光光束，当所述的光源平移台(2)的移动台面直线运动时，所述的光源(1)被带动沿直线运动，同时曝光光束划过一条直线；所述的基片移动模块，包括两个平行放置的基片平移台(601，602)、一块长条形的光栅基座(5)和待曝光光栅基片(4)，所述的两个基片平移台(601，602)都为一维长行程精密平移台，平行安装在所述的龙门架(3)下，所述的两个基片平移台(601，602)的移动台面分别支撑所述的光栅基座(5)的两端，所述的两个基片平移台(601，602)的移动台面的运动方向与所述的光源平移台(2)的移动台面的运动方向垂直，所述的两个基片平移台(601，602)的移动台面的移动将带动所述的光栅基座(5)移动，所述的待曝光的光栅基片(4)放置在所述的光栅基座(5)上，用压片固定；所述的监测控制模块，包括一套3轴激光干涉仪(7)和一台工控机，所述的3轴激光干涉仪(7)有3个测量镜(801，802，800)，安装在所述的光栅基座(5)的侧边，中轴测量镜(800)安装在所述的光栅基座(5)侧边中点处，旁轴测量镜(801，802)安装点分别对准所述的两个基片平移台(601，602)的运动轴线，所述的3轴激光干涉仪(7)的三条测量激光束(901，902，900)分别对准3个测量镜(801，802，800)，与所述的待曝光的光栅基片(4)处于同平面内，所述的3轴激光干涉仪(7)精确测量出3个测量镜(801，802，800)相对初始位置的位移量，所述的工控机与所述的3轴激光干涉仪(7)、所述的光源平移台(2)、所述的两个基片平移台(601，602)、所述的光源(1)相连，通过程序读取及控制它们的状态。