[发明专利]一种超薄镧锶锰氧薄膜界面死层的改善方法

摘要

本发明提供了一种超薄镧锶锰氧薄膜界面死层的改善方法，包括如下步骤：（a）对SrTiO₃基板进行表面台阶处理，获得具有TiO₂表面台阶的基板；（b）采用脉冲激光法在步骤（a）所得的基板上沉积LaAlO₃薄膜，使得在LaAlO₃/SrTiO₃界面出现二维电子气；（c）采用脉冲激光法在步骤（b）所得的LaAlO₃/SrTiO₃上沉积超薄La_0.7Sr_0.3MnO₃薄膜。本发明首先采用酸将SrTiO₃基板处理为具有特定宽度的台阶状态，然后在其上沉积LaAlO₃薄膜，使得在界面处形成一层二维电子气，最后再沉积La_0.7Sr_0.3MnO₃薄膜，从而减少甚至除去镧锶锰氧界面死层，该界面死层可通过控制LaAlO₃的厚度和生长条件进行调控。本发明制备工艺简单，适用范围广，利于实用化，具有广泛应用前景。

主权项

1.一种超薄镧锶锰氧薄膜界面死层的改善方法，其特征在于，包括如下步骤：（a）对SrTiO3基板进行表面台阶处理，获得具有TiO2表面台阶的基板，台阶宽度为100 nm；（b）采用脉冲激光法在步骤（a）所得的基板上沉积厚度为1~5nm的LaAlO3薄膜，使得在LaAlO3/SrTiO3界面出现二维电子气；（c）采用脉冲激光法在步骤（b）所得的LaAlO3/SrTiO3上沉积厚度为2~4nm的超薄La0.7Sr0.3MnO3薄膜。