[发明专利]质谱分析装置有效

专利信息
申请号: 201680084746.2 申请日: 2016-04-18
公开(公告)号: CN109073593B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 原田高宏 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;H01J49/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在激光照射部(13)与试样(100)之间的规定位置处配置具有规定形状的开口的孔构件(14)和焦距短的成像光学系统(15),通过在试样(100)上使开口形状进行缩小成像来形成大致正方形的激光照射区域。另外,能够使孔构件(14)和成像光学系统(15)分别沿光轴方向进行移动,将试样(100)上的大致正方形的激光照射区域的尺寸设为可变。使激光照射区域的尺寸与试样(100)上的分析对象区域内的单位关注区域的大小相匹配,使激光照射位置移动的扫描的步长也与单位关注区域的大小相匹配,由此能够无遗漏且不使激光照射部位重叠地在试样(100)上进行扫描来收集质谱分析数据。由此,能够有效地利用试样,并且也不存在物质的漏检测,均匀地分布的物质的信号强度的均匀性也提高。
搜索关键词: 谱分析 装置
【主权项】:
1.一种质谱分析装置,具备向试样照射激光来将存在于该激光的激光照射区域的试样中的物质进行离子化的离子源,对用该离子源生成的离子或源自该生成的离子的离子进行质谱分析,所述质谱分析装置的特征在于,具备:a)激光光源部,其射出激光;b)激光整形部,其将从所述激光光源部射出的激光整形成该激光的光束的截面形状仅为一种且能够实现平面镶嵌的规定的图形形状;以及c)位置控制部,其以使激光照射位置在所述试样上移动的方式控制该试样与照射激光的相对位置关系,以在该激光的光束的截面形状被整形成所述规定的图形形状之后照射到所述试样上时通过该激光的照射区域实现平面镶嵌的方式控制该试样与照射激光的相对位置关系。
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