[发明专利]绝缘结构制造方法、绝缘结构及旋转电机在审
| 申请号： | 201680084488.8 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN108886284A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 武良光太郎;菊田晋介;津田敏宏;吉满哲夫 | 申请（专利权）人： | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
| 主分类号： | H02K3/30 | 分类号： | H02K3/30;H01B13/00;H02K15/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种将绝缘对象物的外表面覆盖的绝缘结构的制造方法，其具有：通过主绝缘带在绝缘对象物的外侧进行绕带而形成绝缘部的绕带步骤(S01)；在绕带步骤后，将绕带后的绝缘对象物进行抽真空的抽真空步骤(S03)；和在抽真空步骤后，在绝缘部中压入混匀有纳米粒子的掺有纳米粒子的含浸用高分子聚合物并使其含浸的含浸步骤(S04)。 | ||
| 搜索关键词： | 绕带 绝缘对象 绝缘结构 抽真空 含浸 纳米粒子 绝缘部 高分子聚合物 旋转电机 主绝缘 混匀 中压 制造 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种绝缘结构制造方法，其特征在于，其是将绝缘对象物的外表面覆盖的绝缘结构的制造方法，其具有以下步骤：通过主绝缘带在所述绝缘对象物的外侧进行绕带而形成主绝缘部的绕带步骤；在所述绕带步骤后，将绕带后的所述绝缘对象物进行抽真空的抽真空步骤；和在所述抽真空步骤之后，在所述主绝缘部中压入混匀有纳米粒子的掺有纳米粒子的含浸用高分子聚合物并使其含浸的含浸步骤。
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