[发明专利]用于掩蔽基板的掩模布置和用于将掩模与基板对准的方法在审
| 申请号： | 201680080431.0 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN108603279A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 莱内尔·欣特舒斯特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/04;C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用于在处理腔室中的沉积期间掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置包括用于支撑基板(10)的第一板(110)和用于保持掩模(130)的第二板(120)。掩模(130)布置在基板(10)与第二板(120)之间。第一板(110)包括从第一表面(101)突出的第一销(111)和第二销(112)。掩模(130)包括用于接收第一销(111)的第一孔(131)和用于接收第二销(112)的第二孔(132)。第一孔(131)被配置成允许掩模在第二方向(142)上相对于第一板(110)移动，并且第二孔(132)被配置成允许掩模(130)在第一方向(141)上相对于第一板(110)移动。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 第一板 掩模布置 掩蔽基 处理腔室 第一表面 基板对准 支撑基板 移动 基板 沉积 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在处理腔室中的沉积期间掩蔽基板(10)的掩模布置(100)，所述掩模布置包括：‑第一板(110)，具有用于支撑所述基板(10)的第一表面(101)；和‑第二板(120)，用于保持掩模(130)，其中所述掩模(130)具有至少一个开口并且布置在所述基板(10)与所述第二板(120)之间；其中所述第一板(110)包括从所述第一表面(101)突出的第一销(111)和第二销(112)，其中所述第一销(111)被布置成界定所述基板在第一方向(141)上的移动，其中所述第二销(112)被布置成界定所述基板在不同于所述第一方向(141)的第二方向(142)上的移动，其中所述掩模(130)包括用于接收所述第一销(111)的第一孔(131)和用于接收所述第二销(112)的第二孔(132)，其中所述第一孔(131)被配置成允许所述掩模在所述第二方向(142)上相对于所述第一板(110)移动，并且其中所述第二孔(132)被配置成允许所述掩模(130)在所述第一方向(141)上相对于所述第一板(110)移动。
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