[发明专利]光场显示度量有效
| 申请号： | 201680077871.0 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN108474737B | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | S·A·米勒;L·E·埃德温;I·L·约 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;杨晓光 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于显示器的光场度量系统的示例。所述光场度量可以捕获投影光场的图像，并且使用所捕获的图像来确定光场的各个区域的焦深(或横向焦点位置)。然后可以将所确定的焦深(或横向位置)与预期焦深(或横向位置)进行比较，以量化显示器的缺陷。基于所测量的缺陷，可以对光场执行适当的误差校正以校正所测量的缺陷。所述显示器可以是头戴式显示器中的光学显示元件，例如能够产生多个深度平面的光学显示元件或光场显示器。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 度量 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量由显示器生成的光场中的缺陷的光学度量系统，所述光学度量系统包括：显示器，其被配置为投影目标光场，所述目标光场包括具有预期焦点位置的虚拟对象；相机，其被配置为获得所述目标光场的图像；硬件处理器，其用可执行的指令被编程为：访问与所述光场的一部分对应的一个或多个图像；分析所述一个或多个图像以识别与所述虚拟对象的对焦位置对应的所测量的焦点位置；以及至少部分地基于所述所测量的焦点位置与所述预期焦点位置的比较来确定所述光场中的缺陷。
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