[发明专利]控制图案形成过程的方法、器件制造方法、用于光刻设备的控制系统以及光刻设备

摘要

性能测量目标用于在处理多个衬底之后测量光刻过程的性能。在设定阶段，该方法通过参考图案形成过程的预期参数从多个候选标记类型中选择对准标记类型和对准选配方案。在使用图案形成过程曝光多个测试衬底之后，通过比较由参考技术测量的图案形成过程的性能的测量性能(例如，重叠)来选择优选的量测目标类型和量测选配方案。基于在实际执行图案形成过程之后对位置测量标记和性能测量目标的测量，可以修正对准标记类型和/或选配方案，从而共同优化对准标记和量测目标。替代性的批次反馈策略也可以在过程的后续操作中进行比较。

主权项

1.一种控制图案形成过程的方法，包括：(a)测量提供在衬底上的多个位置测量标记的位置；(b)使用所测量的位置来限定衬底校正；(c)在控制所述图案形成过程中使用所述衬底校正来将图案施加到所述衬底上；(d)使用所施加的图案中包括的多个性能测量目标，用于测量所述图案形成过程的性能参数；和(e)在处理多个衬底之后，使用所测量的性能参数来计算过程校正并且将所述过程校正与步骤(c)中的所述衬底校正一起使用，其中所述方法还包括，在设定阶段中，(i)通过参考所述图案形成过程的预期参数，从多个候选标记类型中选择用于所述图案形成过程的一种类型的位置测量标记；(ii)使用所述图案形成过程将测试图案施加于多个衬底，所述测试图案包括多个候选类型的性能测量目标；和(iii)通过比较使用不同类型的性能测量目标测量的图案形成过程的性能和通过其他手段测量的图案形成过程的性能来选择优选的候选类型的性能测量目标，并且其中所述方法在设定阶段中还包括：(iv)基于实际执行步骤(ii)中的图案形成过程之后的位置测量标记和性能测量目标的测量，修正用于控制步骤(c)中的图案形成过程的位置测量标记类型的选择。