[发明专利]波前分析的装置与方法有效
| 申请号： | 201680075974.3 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN108431694B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | U.韦格曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于用于波前分析的装置及方法。用于波前分析的装置设计为用于分析通过光学系统的至少一个光波的波前，且包含：至少一个照明掩模(105、205、305、405、406、407)；至少一个第一光栅(120、220、320、420)，其具有至少一个第一光栅结构并从待分析波前产生干涉图于预定义平面中，该待分析波前从照明掩模出发并通过光学系统；至少一个第二光栅(130、230、330、430)，其配置于该预定义平面中，该至少一个第二光栅具有至少一个第二光栅结构并通过第二光栅结构与由第一光栅所产生的干涉图的叠加而产生叠加图案；以及至少一个检测器(140、240、340、440)，用以检测该叠加图案。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于波前分析的装置，其设计用以分析通过光学系统的至少一个光波的波前，该装置包含：至少一个照明掩模(105、205、305、405、406、407)；至少一个第一光栅(120、220、320、420)，其具有至少一个第一光栅结构并从待分析的波前产生干涉图于预定义平面中，该待分析的波前从该照明掩模(105、205、305、405、406、407)出发并通过该光学系统；至少一个第二光栅(130、230、250、330、430)，配置于该预定义平面中，该至少一个第二光栅具有至少一个第二光栅结构并通过该第二光栅结构与由该第一光栅(120、220、320、420)所产生的该干涉图的叠加而产生叠加图案；以及至少一个检测器(140、240、340、440)，用以检测该叠加图案。
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