[发明专利]被覆膜与其制造方法、PVD装置及活塞环有效
| 申请号： | 201680073541.4 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN108368602B | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 森口秀树;柴田明宣;大城竹彦;伊东义洋;冈崎孝弘;杉浦宏幸 | 申请（专利权）人： | 日本ITF株式会社;日本活塞环株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C01B32/15;C01B32/18;C01B32/182;C23C14/32;F16J9/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都市南区久世殿城*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将所述被覆膜成膜的制造方法。一种PVD装置，其为所述的被覆膜的制造方法中使用的电弧式物理气相沉积装置。一种活塞环，其至少在外周滑动面上具有所述的被覆膜。 | ||
| 搜索关键词： | 被覆 与其 制造 方法 pvd 装置 活塞环 | ||
【主权项】：
1.一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，所述被覆膜的特征在于：在利用明视场透射式电子显微镜图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，所述白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。
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