[发明专利]使用烷基-铟化合物的烃溶液进行金属有机气相沉积的方法

摘要

本发明涉及用于通过金属有机气相沉积制备含铟层的方法，其中所述含铟层在反应室中在基板上生成，其中所述铟以具有式InR3的含铟前体化合物的形式递送到工艺，其中基团R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团，其特征在于含铟前体化合物的递送以溶液形式发生，所述溶液包含溶剂和溶于其中的含铟前体化合物，其中所述溶剂具有至少一种具有1至8个碳原子的烃。本发明还涉及一种溶液，该溶液由下列组成：式InR3的化合物，其中R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团，和至少一种具有1至8个碳原子的烃，所述溶液用于通过金属有机气相沉积制备含铟层的用途，以及用于执行所述方法的装置。

主权项

1.通过金属有机气相沉积制造含铟层的方法，其中所述含铟层在反应室(4)中在基板上生成，其中所述铟以具有式InR3的含铟前体化合物的形式递送到工艺，其中基团R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团，其特征在于所述含铟前体化合物以溶液形式递送，所述溶液包含溶剂和溶于其中的所述含铟前体化合物，其中所述溶剂具有至少一种具有1至8个碳原子的烃。