[发明专利]像素体积约束的方法在审
| 申请号： | 201680067229.4 | 申请日： | 2016-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN108291975A | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | R·斯特德曼布克;F·韦尔巴凯尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种能量分辨辐射探测器的晶体中的像素体积约束方法，所述能量分辨辐射探测器优选地是X射线探测器，更优选地是计算机断层摄影探测器，所述晶体具有阴极侧和阳极侧，所述方法包括：a.沿像素虚拟界限在晶体中引起断裂线(501)，b.钝化所述断裂线。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 辐射探测器 能量分辨 体积约束 断裂线 优选 计算机断层摄影 阳极侧 阴极侧 探测器 钝化 虚拟 | ||
【主权项】：
1.一种能量分辨辐射探测器的晶体中的像素体积约束方法，所述能量分辨辐射探测器优选地是X射线探测器，更优选地是计算机断层摄影探测器，所述晶体具有阴极侧和阳极侧，所述方法包括：a、沿像素虚拟界限在晶体中引起断裂线，b、钝化所述断裂线，其中，所述断裂线由聚焦离子束和离子注入中的至少一种引起。
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