[发明专利]硬质涂层、硬质涂布构件及其生产方法以及用于制造硬质涂层的靶及其生产方法在审
| 申请号： | 201680067046.2 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN108368600A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 府玻亮太郎;久保田和幸;福永有三 | 申请（专利权）人： | 三菱日立工具株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;B23B27/14;C23C14/02;C23C14/32;C22C29/08 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 王东贤;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种硬质涂层，该硬质涂层具有由(AlxTiyMz)aN(1‑a‑b)Ob表示的组成，其中M是Cr和Nb中的至少一种元素，并且x、y、z、a和b是按原子比分别满足0.6≤x≤0.8，0.05≤y≤0.38，0.02≤z≤0.2，x+y+z＝1，0.2≤a≤0.8和0.02≤b≤0.10的数，作为通过X射线光电子能谱鉴定的键合状态，该硬质涂层具有M‑O键，而没有超过不可避免的杂质水平的Al‑O键，并且该硬质涂层在其X射线衍射图中仅具有NaCl型结构。 | ||
| 搜索关键词： | 硬质涂层 涂布构件 杂质水平 原子比 键合 硬质 生产 制造 | ||
【主权项】：
1.一种硬质涂层，所述硬质涂层具有由(AlxTiyMz)aN(1‑a‑b)Ob表示的组成，其中M是Cr和Nb中的至少一种元素，并且x、y、z、a和b是按原子比分别满足0.6≤x≤0.8，0.05≤y≤0.38，0.02≤z≤0.2，x+y+z＝1，0.2≤a≤0.8和0.02≤b≤0.10的数；作为通过X射线光电子能谱鉴定的键合状态，所述硬质涂层具有M‑O键，而没有超过不可避免的杂质水平的Al‑O键，并且所述硬质涂层在其X射线衍射图中仅具有NaCl型结构。
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