[发明专利]用于通过电子回旋加速器共振等离子体制造非晶态碳层的设备在审
| 申请号： | 201680066839.2 | 申请日： | 2016-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN108350569A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 马克·德劳内;安妮·吉斯 | 申请（专利权）人： | 法国原子能及替代能源委员会 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01J27/18;H01J37/32;H05H1/18;H05H1/46;F03H1/00;C23C14/06 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人： | 宋义兴;曾海艳 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用电子回旋加速器共振等离子体制造非晶态碳层的设备，该设备包括等离子腔(13)，输送气体(4)的输送装置，磁镜(15)，沿参考轴线延伸的波导(5)，注入微波能量的注入装置(1)，用于在等离子腔(3)中生成磁场的生成装置(2)，用于在等离子腔(3)中生成磁场的生成装置(2)配置为创造磁场线的束(13)，等离子体沿磁场线束(13)传播；由碳制备而成的靶(9)；基底架(10)；其特征在于，靶(9)布置在到参考轴线(14)的距离为R靶/2到R靶，该设备进一步包含布置在波导(5)和基底架(10)之间的屏(8)。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 等离子腔 电子回旋加速器 非晶态碳层 参考轴线 生成装置 磁场线 基底架 共振 波导 磁场 输送气体 输送装置 微波能量 注入装置 磁镜 制备 制造 延伸 配置 传播 | ||
【主权项】：
1.一种通过电子回旋加速器共振等离子体制造非晶态碳层的设备，该设备包含：‑等离子腔(3)；‑运输气体(4)进入等离子腔(3)的输送装置；‑磁约束镜(15)，‑波导(5)，该波导插入到等离子腔(3)中且沿参考轴线(14)延伸；‑微波电磁波注入装置(1)，该注入装置布置成借助波导(5)将微波电磁波注入到等离子腔(3)中；‑生成装置(2)，该生成装置在等离子腔(3)中生成磁场，注入装置(1)和生成装置(2)配置为在等离子腔(3)中形成电子回旋加速器共振区(6)，用于生成磁场的生成装置(2)进一步配置为创造磁场线的束(13)，等离子体沿磁场线的束(13)传播，等离子体沿参考轴线(14)延伸，等离子体具有边缘；‑由将要溅射的碳制成的靶(9)；‑用于支撑基底的基底架(10)，其特征在于，‑靶(9)平行于参考轴线布置且与参考轴线之间的距离为R靶/2到R靶之间，其中，R靶，靶所在位置水平，是等离子体边缘和参考轴线之间的距离；‑该设备进一步包含屏(8)，屏(8)布置在波导(5)和基底架(10)之间，屏(8)垂直于参考轴线(14)延伸，且部分地阻挡能够冲击基底的等离子体粒子；‑基底架(10)平行于参考轴线(14)布置，且到参考轴线(14)的距离大于R靶，从而将基底布置在等离子体的外侧；‑靶(9)和基底架(10)面对面布置。
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