[发明专利]发光二极管装置与其制作方法在审
| 申请号： | 201680065603.7 | 申请日： | 2016-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN108352434A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 林治民;吕宗霖;余韦廷;叶寅夫;谢忠全;林俊民 | 申请（专利权）人： | 亿光电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/60 | 分类号： | H01L33/60 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种发光二极管装置及其制作方法，发光二极管装置(400)包括一发光二极管芯片(430)、一封装胶体(440)以及一环形挡墙(450’)。发光二极管芯片具有一第一上表面且封装胶体覆盖发光二极管芯片。其中环形挡墙的反射面(450a)倾斜于发光二极管芯片的侧面(430b)。可有效地调整出光角度，并可减少在面临市场需求改变使重新设计透镜的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管芯片 发光二极管装置 封装胶体 环形挡墙 覆盖发光二极管芯片 透镜 市场需求 重新设计 反射面 上表面 有效地 制作 侧面 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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