[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
| 申请号： | 201680061983.7 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN108351583B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 竹花直人;羽田野拓也 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B7/02;G02B7/04;G02B7/08;G02B7/198;G03B21/00;G03B21/28;H04N5/74 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 例如提供投射光学系统和使用了该投射光学系统的投影仪，该投射光学系统在应用于进行近距离投射的投影仪中时，能够容易地进行透镜的位置调整(特别是制造过程中的对焦位置调整)。在该投射光学系统中设置有旋转限制部(61)，该旋转限制部(61)在通过镜筒引导筒(39a)和位置调整凸轮筒(39b)中的凸轮的旋转动作进行制造工序时的对焦位置调整(透镜间的位置调整)时能够限制凸轮的旋转范围。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】：
1.一种投射光学系统，其具有：镜筒引导筒，其收纳透镜组；位置调整凸轮筒，其用于进行收纳于所述镜筒引导筒的透镜组的位置调整；以及旋转限制部，其能够限制所述镜筒引导筒和所述位置调整凸轮筒中的凸轮的旋转范围。
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