[发明专利]用于激光烧蚀的负性光致抗蚀剂组合物及其使用方法有效
| 申请号： | 201680061471.0 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108139670B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 陈春伟;刘卫宏;卢炳宏 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/36;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓毅 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 可通过宽带紫外辐射交联的组合物，其在交联后能够通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光进行冷烧蚀，其中所述组合物包含可在碱水溶液中显影的负性色调抗蚀剂，还包含强烈吸收约220nm至约310nm范围内的紫外辐射的共轭芳基添加剂。本发明还涵盖包括步骤a)，b)和c)的方法，a)将权利要求1的组合物涂覆在基底上；b)通过用宽带UV曝光辐照使整个涂层交联；c)通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光的冷激光烧蚀在交联涂层中形成图案。最后，本发明还涵盖本发明还涵盖包括步骤a')，b')，c')和d')的方法a)将权利要求1的组合物涂覆在基底上；b)通过掩模通过用宽带UV曝光的辐照使部分涂层交联；c)用碱水溶液显影涂层，除去涂层的未曝光区域，从而形成第一图案；d)通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光冷激光烧蚀第一图案，在第一图案中形成第二图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 负性光致抗蚀剂 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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