[发明专利]成像元件、成像元件的制造方法、成像装置以及成像装置的制造方法

摘要

本公开提供了一种成像装置的制造方法，所述成像装置在成像区域中包括多个成像元件，其中各个所述成像元件包括基板中的光电转换部和配置在所述光电转换部的光入射侧的线栅偏振器。所述方法通常包括形成包括多个层叠条形部分的线栅偏振器，其中所述多个层叠条形部分中的每一个包括光反射层的一部分和光吸收层的一部分。所述光反射层可以包含与所述基板和所述光电转换部中的至少一个电连接的第一导电材料。所述光吸收层可以包含第二导电材料，其中所述光吸收层的至少一部分与所述光反射层接触。

主权项

1.一种成像装置的制造方法，所述成像装置在成像区域中包括多个成像元件，各个所述成像元件包括基板中的光电转换部和配置在所述光电转换部的光入射侧的线栅偏振器，所述方法包括：在所述基板中形成所述光电转换部；在所述光电转换部上或上方形成光反射层，其中所述光反射层包含与所述基板和所述光电转换部中的至少一个电连接的第一导电材料；在所述光反射层上或上方形成光吸收层，其中所述光吸收层包含第二导电材料，并且其中所述光吸收层的至少一部分与所述光反射层接触；和对所述光吸收层和所述光反射层进行图案化，以形成包括多个层叠条形部分的所述线栅偏振器，其中所述多个层叠条形部分中的每一个包括所述光反射层的一部分和所述光吸收层的一部分。