[发明专利]具有液位控制的表面处理机器有效
| 申请号: | 201680050547.X | 申请日: | 2016-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN108135422B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
| 发明(设计)人: | F·拉卡尼罗 | 申请(专利权)人: | IP清洁公司 |
| 主分类号: | A47L11/30 | 分类号: | A47L11/30;A47L11/40 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵志刚;赵蓉民 |
| 地址: | 意大利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种表面处理机器(10),包括:框架(11),其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移;表面处理元件(13),其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理;储集器(14),其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体提供到所述表面处理元件(13);调整元件(16),其被布置成将从所述储集器(14)供应的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15)。随后提供传感器(20),其适于测量所述储集器(14)中的剩余液体的液位。控制单元(30)从所述传感器(20)接收与所述储集器(14)中的剩余液体成比例的信号以用于响应于此值而调整所述调整元件(16),以便响应于液体保存参数而以流动速率的优化来递送所述液体。随后有可能最大化所述机器的范围,且优化操作者的工作时间。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 控制 表面 处理 机器 | ||
【主权项】:
一种表面处理机器(10),包括:框架(11),其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移,表面处理元件(13),其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理,所述框架(11)相对于所述表面(12)前进,储集器(14),其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体供应到所述表面处理元件(13);调整元件(16),其被布置成将由所述储集器(14)提供的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15);传感器(20),其被配置成测量所述储集器(14)中的剩余液体的液位且提供测量信号;输入/输出单元(70),其用于显示指示所述储集器(14)中的液体的所述剩余液位的所述测量信号且用于输入液体保存参数;控制单元(30),其被布置成从所述传感器(20)接收所述测量信号和所述液体保存参数;程序构件(80),其驻留于所述控制单元(30)中,被配置成响应于所述测量信号和所述液体保存参数而设定所述调整元件(16);其中所述输入/输出单元(70)包括所述液位测量信号、所述液体保存参数以及所计算的所述机器的范围值的显示单元(60)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于IP清洁公司,未经IP清洁公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680050547.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。





