[发明专利]绝缘被膜处理液和带有绝缘被膜的金属的制造方法有效
| 申请号: | 201680050204.3 | 申请日: | 2016-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN107923046B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
| 发明(设计)人: | 寺岛敬;末广龙一;渡边诚;高宫俊人 | 申请(专利权)人: | 杰富意钢铁株式会社 |
| 主分类号: | C23C22/07 | 分类号: | C23C22/07;C21D9/46;C23C22/00;C23C22/12;C23C22/42;H01F1/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: |
本发明提供一种可得到显示良好物性的绝缘被膜的绝缘被膜处理液。上述绝缘被膜处理液含有选自Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al和Mn中的至少1种的磷酸盐以及平均粒径不同的2种以上的胶体二氧化硅,上述胶体二氧化硅的合计含量相对于上述磷酸盐的固体成分100质量份以SiO |
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| 搜索关键词: | 绝缘 处理 带有 金属 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种绝缘被膜处理液,是在金属的表面上形成绝缘被膜的绝缘被膜处理液,其含有选自Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al和Mn中的至少1种的磷酸盐以及平均粒径不同的2种以上的胶体二氧化硅,所述胶体二氧化硅的合计含量相对于所述磷酸盐的固体成分100质量份以SiO2固体成分换算计为50~120质量份,将所述胶体二氧化硅的平均粒径从小的一方起依次设为r1、…、rn时,由ri+1/ri表示的平均粒径比为1.5以上,将所述胶体二氧化硅的SiO2固体成分换算的质量从平均粒径小的一方起依次设为w1、…、wn时,由wi+1/(wi+1+wi)表示的质量比为0.30~0.90,其中,n表示2以上的整数,i表示1~n的整数。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
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C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理





