[发明专利]微波等离子体产生室有效
| 申请号： | 201680044385.9 | 申请日： | 2016-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107926107B | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | M·哈默尔 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/30 | 分类号： | H05H1/30;H05H1/46;H05H1/26 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 史悦 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体产生的微波室。该微波室包括：发射结构，其位于微波室的第一端处以容纳用于产生微波能量的微波源；以及端接区段，其位于微波室的与第一端部相对的第二端部处。该端接区段被构造为大致阻塞微波能量从室的第二端传播。微波室还包括内壁结构，该内壁结构用于将在微波室内接收的微波能量在第一端处朝第二端引导并且限定腔体。该内壁结构包括：阻抗匹配区段，其在第一端和第二端中间；以及电容负载区段，其在阻抗匹配区段和第二端之间，其中电容负载区段包括沿着室的纵向轴线延伸的至少一个脊部。微波室限定延伸过电容负载区段的第一壁的第一开口和延伸过电容负载区段的第二壁的第二开口。第二壁与第一壁相对。第一开口和第二开口被构造为彼此配合以沿着延伸过第一开口和第二开口且大致垂直于室的纵向轴线的轴线在电容负载区段中接收等离子体焰炬。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 等离子体 产生 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体产生的微波室，包括：发射结构，其在微波室的第一端处，用以容纳用于产生微波能量的微波源；端接区段，其在所述微波室的与所述第一端相对的第二端处，所述端接区段被构造为大致阻塞所述微波能量从所述室的第二端传播；以及内壁结构，其用于将在所述微波室内接收的微波能量朝所述第二端引导，所述内壁结构限定腔体并且包括：阻抗匹配区段，其在所述第一端和所述第二端的中间；电容负载区段，其位于所述阻抗匹配区段和所述第二端之间，其中所述电容负载区段包括沿着所述室的纵向轴线延伸的至少一个脊部；并且其中所述微波室限定延伸过所述电容负载区段的第一壁的第一开口和延伸过所述电容负载区段的第二壁的第二开口，所述第二壁与所述第一壁相对；并且其中所述第一开口和所述第二开口被构造为彼此配合以沿着延伸过所述第一开口和所述第二开口且大致垂直于所述室的所述纵向轴线的轴线在所述电容负载区段中接收等离子体焰炬。
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