[发明专利]具有可控制的光谱的光源在审
申请号: | 201680043528.4 | 申请日: | 2016-07-21 |
公开(公告)号: | CN107923791A | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | F·弗兰克;M·埃斯特曼;C·卡佩尔;F·舍韦;R·黑林;A·温克勒;C·M·R·格里夫斯 | 申请(专利权)人: | 仪器系统光学测量技术有限责任公司 |
主分类号: | G01J3/02 | 分类号: | G01J3/02;G01J3/10;G01J3/18;G02B19/00;G02B27/10;G02B27/42 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 周家新 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于发光的设备,其包括多个光源(1);控制装置(2),其驱动光源(1);叠加光学单元,其将光源(1)发射的光叠加在出口(3)中。本发明的目的在于提供一种与现有技术相比有所改进的设备。为此,本发明提出所述叠加光学单元包括第一凹面镜(4),光源(1)布置在所述第一凹面镜的焦平面中;光栅(5),第一凹面镜(4)将由光源(1)发射的光(6)反射到所述光栅上,以及第二凹面镜(7),其将在光栅(5)处衍射的光(8)反射到位于第二凹面镜(7)的焦点处的出口(3)上。 | ||
搜索关键词: | 具有 控制 光谱 光源 | ||
【主权项】:
一种用于发光的设备,其包括:‑多个光源(1),‑控制装置(2),其驱动光源(1),‑叠加光学单元,其将光源(1)发射的光叠加在出口(3)中,其特征在于,所述叠加光学单元包括:‑第一凹面镜(4),光源(1)布置在所述第一凹面镜(4)的焦平面中,‑光栅(5),第一凹面镜(4)将由光源(1)发射的光(6)反射到所述光栅(5)上,以及‑第二凹面镜(7),其将在光栅(5)处衍射的光(8)反射到位于第二凹面镜(7)的焦点处的出口(3)上。
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