[发明专利]包含皂苷和碳酸根离子和/或碳酸氢根离子的沐浴露在审

专利信息
申请号: 201680032369.8 申请日: 2016-07-27
公开(公告)号: CN107847417A 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 中村有子 申请(专利权)人: 优-百斯特有限责任公司
主分类号: A61K8/63 分类号: A61K8/63;A61K8/19;A61K8/9794;A61Q19/10
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)11400 代理人: 方挺,周锐
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种低刺激、洗去后的清爽感优异、而且不易产生细菌的沐浴露。该沐浴露的特征在于,包含特定的糖苷化合物、以及碳酸根离子和/或碳酸氢根离子。
搜索关键词: 包含 皂苷 碳酸 离子 沐浴
【主权项】:
一种沐浴露,其特征在于,包含:选自由通式(I)或(II)表示的化合物构成的组中的一种或两种以上的糖苷化合物、以及碳酸根离子和/或碳酸氢根离子,[化学式1](在通式(I)中,R1、R2、R4、R5、R6、R7、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R17、R20分别独立地是H、CH3、OH、=O;当C‑5、C‑6为单键时,R5为H,当C‑5、C‑6为双键时,R5不存在;当B为CH2时,A为O,或者当A为CH2时,B为O;当R27B为CH3时,R27A为H,或者当R27B为H时,R27A为CH3;R3为糖基)[化学式2](在通式(II)中,R1、R2、R4、R5、R6、R7、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R17、R20、R22分别独立地是H、CH3、OH、=O;当C‑5、C‑6为单键时,R5为H,当C‑5、C‑6为双键时,R5不存在;当C‑20、C‑22为单键时,R22为羟基或烷氧基,当C‑20、C‑22为双键时,R22不存在;当R27B为CH3时,R27A为H,或者当R27B为H时,R27A为CH3;R28为H或糖基;R3为糖基)。
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