[发明专利]半导体装置以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201680026428.0 | 申请日: | 2016-06-28 |
公开(公告)号: | CN107533984B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 巽裕章;熊田翔;铃木修;川端大辅 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;H01L21/60;H01L23/12;H01L25/07;H01L25/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 半导体装置(1)具备:电极(22),具有平坦部、和由凹部构成的非平坦部(6);接合层(3),设置于电极(22)的平坦部及非平坦部(6)上,由金属晶粒的烧结体构成;以及半导体元件(4)、(5),隔着接合层(3)与电极(22)接合,接合层(3)具有被非平坦部(6)和半导体元件(4)、(5)夹住的第一区域(3a)、和被平坦部和半导体元件(4)、(5)夹住的第二区域(3b),第一区域(3a)以及第二区域(3b)中的层厚大的一方的区域的金属晶粒的填充率小于层厚小的一方的区域的金属晶粒的填充率。通过本发明,基于金属晶粒的烧结体的接合层的可靠性变得良好。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具备:绝缘板;电极,设置于所述绝缘板上,具有平坦部和由凹部或者凸部构成的非平坦部;接合层,设置于所述电极的所述平坦部及所述非平坦部上,由金属晶粒的烧结体构成;以及半导体元件,隔着所述接合层与所述电极接合,所述接合层具有:第一区域,被所述非平坦部和所述半导体元件夹住;以及第二区域,被所述平坦部和所述半导体元件夹住,所述第一区域以及所述第二区域中的层厚大的一方的区域的所述金属晶粒的填充率小于所述第一区域以及所述第二区域中的层厚小的一方的区域的所述金属晶粒的填充率。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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